[发明专利]光酸发生剂在审
| 申请号： | 201110463187.5 | 申请日： | 2011-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102617430A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | J·W·撒克里;S·M·科利;J·F·卡梅伦;P·J·拉博姆;O·昂格伊;V·杰恩;A·E·麦德考尔 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司 |
| 主分类号： | C07C381/12 | 分类号： | C07C381/12;C07C309/06;C07C303/32;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 光酸发生剂。一种以式(I)所示的光酸发生剂化合物：G+Z-(I)，其中G具有式(II)(II)，其中在式(II)中，X是S或I，每个R0通常连接到X，且独立的为C1-30烷基；多环或单环C3-30环烷基；多环或单环C6-30芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺胺。光致抗蚀剂和涂敷薄膜也包括光酸发生剂和聚合物，以及使用所述光致抗蚀剂的电子设备的形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 发生 | ||
【主权项】：
1.一种以式(I)所示的化合物：G+Z- (I)其中G具有式(II)：![]()
其中在式(II)中，X是S或I，每个R0共同连接到X，且独立的为C1-30烷基；多环或单环C3-30环烷基；多环或单环C6-30芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺酰胺。
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