[实用新型]多参数精确可调多制式微波辅助纳米材料制备后处理装置有效
| 申请号： | 201120007452.4 | 申请日： | 2011-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN201971629U | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 刘健 | 申请（专利权）人： | 扬州蓝剑电子系统工程有限公司 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 225003 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种多参数精确可调多制式微波辅助纳米材料制备后处理装置。该后处理装置包括外层设有金属屏蔽层的箱体，在箱体内壁设有全包覆吸波材料，在箱体内壁顶部设有红外测温装置和定向微波束发射天线，在箱体内壁底部设有工作台，在工作台上留有进出样部件。本实用新型的多参数精确可调多制式微波辅助纳米材料制备后处理装置，结构简单，设计巧妙，对比传统的微波辅助装置，主要优点有：用于纳米合成组装的微波系统多参数精确可调；微波源和反应腔体分体式设计；微波反应釜内微波束定向，壁内衬吸波材料，保证了纳米样品台附近的微波场成分单一，便于利用单程雷达方程进行计算模拟，为实验以后深入开展纳米材料微波控制合成以及组装的理论分析提供支持。 | ||
| 搜索关键词： | 参数 精确 可调 制式 微波 辅助 纳米 材料 制备 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种多参数精确可调多制式微波辅助纳米材料制备后处理装置，其特征在于：包括外层设有金属屏蔽层的箱体，在箱体内壁设有全包覆吸波材料，在箱体内壁顶部设有红外测温装置和定向微波束发射天线，在箱体内壁底部设有工作台，在工作台上留有进出样部件。
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