[实用新型]带过滤屏的阴极弧离子镀装置有效

专利信息
申请号: 201120008051.0 申请日: 2011-01-12
公开(公告)号: CN202022974U 公开(公告)日: 2011-11-02
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 超晶科技有限公司
主分类号: C23C14/38 分类号: C23C14/38
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 萨摩亚*** 国省代码: 萨摩亚;WS
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摘要: 实用新型公开了一种带过滤屏的阴极弧离子镀装置,其目的在于提供一种带过滤屏的阴极弧离子镀装置,能够能效的抑制金属液滴的产生,且能过滤阴极弧源产生的较大颗粒的金属液滴,获得较高表面质量的金属氮化物涂层,设备简单,沉积速度快,膜基结合力好。本实用新型包括真空室、电源与控制装置和供气设备,真空室上连有抽真空设备和循环水冷却设备,真空室内设有旋转工件支架,所述真空室侧壁上均布有多个前端与真空室连通的阴极弧源,阴极弧源分别与电源与控制装置和供气设备连接,阴极弧源的前端口上设有网状过滤屏。
搜索关键词: 过滤 阴极 离子镀 装置
【主权项】:
一种带过滤屏的阴极弧离子镀装置,包括真空室(1)、电源与控制装置(2)和供气设备(3),真空室上连有抽真空设备(4)和循环水冷却设备(5),真空室内设有旋转工件支架(6),其特征在于:所述真空室侧壁上均布有多个前端与真空室连通的阴极弧源(7), 阴极弧源分别与电源与控制装置和供气设备连接,阴极弧源的前端口上设有网状过滤屏(8)。
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