[实用新型]专用测量显微镜大视场辅助成像系统无效

专利信息
申请号: 201120010878.5 申请日: 2011-01-14
公开(公告)号: CN201993524U 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 黄宏臻;李尉红 申请(专利权)人: 东莞市兆丰精密仪器有限公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B27/10;G01B9/04
代理公司: 深圳市中联专利代理有限公司 44274 代理人: 陈德文
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了专用测量显微镜大视场辅助成像系统,包括主成像体、主成像系统CCD摄像面、物平面和辅助成像系统CCD摄像面,所述的主成像系统CCD摄像面与物平面之间安装有分光镜,物平面与辅助成像系统CCD摄像面之间安装有反光镜,反光镜与辅助成像系统CCD摄像面之间安装有大市场辅助成像镜组和孔径光栏;所述的分光镜与反光镜平行,且分光镜和反光镜与水平面之间成45°夹角;本实用新型的有益效果:实用,生产成本低,能对观察对象进行较大范围成像,能方便快捷的寻找到目标观察体并进行定位,提高了测量的效率。
搜索关键词: 专用 测量 显微镜 视场 辅助 成像 系统
【主权项】:
专用测量显微镜大视场辅助成像系统,包括主成像体(1)、主成像系统CCD摄像面(9)、物平面(8)和辅助成像系统CCD摄像面(7),其特征在于:所述的主成像系统CCD摄像面(9)与物平面(8)之间安装有分光镜5,物平面(8)与辅助成像系统CCD摄像面(7)之间安装有反光镜(4),反光镜(4)与辅助成像系统CCD摄像面(7)之间安装有大市场辅助成像镜组(2)和孔径光栏(3)。
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