[实用新型]激光上位机气体分析系统有效

专利信息
申请号: 201120015423.2 申请日: 2011-01-18
公开(公告)号: CN201974378U 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 石兆奇;杨亮 申请(专利权)人: 西安鼎研科技有限责任公司
主分类号: G01N21/35 分类号: G01N21/35;G01N21/17;G01N15/06;G01K13/02;G01P5/00;G01L11/00
代理公司: 西安西交通盛知识产权代理有限责任公司 61217 代理人: 黄瑞华
地址: 710075 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型提供一种激光上位机气体分析系统,用于分析烟道内气体,其包括气体采样探头、烟尘测试仪、三位一体机、预处理装置、工业PC机、红外气体分析仪和终控机;所述气体采样探头、烟尘测试仪的第一测量探头、三位一体机的第二测量探头设置于所述烟道内,所述气体采样探头、预处理装置、红外气体分析仪依次连接;所述烟尘测试的第一测量探头和三位一体机的第二测量探头连接所述工业PC机。本实用新型通过设置三种不同的采样探头,能够满足不同状况下采集、分析的要求;对数据能够进行储存和实时显示,节省了人力且可以为控制烟气污染提供有力的数据管控。
搜索关键词: 激光 上位 气体 分析 系统
【主权项】:
一种激光上位机气体分析系统,用于分析烟道(1)内气体,其特征在于,包括气体采样探头(2)、气体测试装置(5)和终控机(9);所述气体测试装置(5)包括预处理装置(6)、工业PC机(7)和红外气体分析仪(8);所述气体采样探头(2)设置于所述烟道(1)内,所述气体采样探头(2)、预处理装置(6)、红外气体分析仪(8)、工业PC机(7)和终控机(9)依次连接。
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