[实用新型]热转印机真空料台的边框结构无效

专利信息
申请号: 201120030412.1 申请日: 2011-01-28
公开(公告)号: CN201998536U 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 姜秦岭;刘其林 申请(专利权)人: 济南美图标识材料有限公司
主分类号: B41F16/00 分类号: B41F16/00
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人: 李桂存
地址: 250000 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种热转印机真空料台的边框结构,本实用新型包括上框、下框和真空膜,上框上设有一圈密封条嵌槽Ⅰ,真空膜的周边通过密封条Ⅰ压入到密封条嵌槽Ⅰ内,下框上设有一圈密封条嵌槽Ⅱ,密封条嵌槽Ⅱ内填有密封条Ⅱ,上框的一边和下框的一边相铰接,当上框和下框折合在一起时,密封条Ⅱ将真空膜压紧在上框上。本实用新型密封性好、真空膜及密封条采用镶嵌插入式固定方式,无螺丝或铆钉,连接可靠,真空膜和密封条均为软接触不容易磨损或破坏。并且本实用新型切割组装方便。
搜索关键词: 热转印机 真空 边框 结构
【主权项】:
一种热转印机真空料台的边框结构,其特征在于:包括上框、下框和真空膜,上框上设有一圈密封条嵌槽Ⅰ,真空膜的周边通过密封条Ⅰ压入到密封条嵌槽Ⅰ内,下框上设有一圈密封条嵌槽Ⅱ,密封条嵌槽Ⅱ内填有密封条Ⅱ,上框的一边和下框的一边相铰接,当上框和下框折合在一起时,密封条Ⅱ将真空膜压紧在上框上。
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