[实用新型]一种多通道干涉仪无效
申请号: | 201120059933.X | 申请日: | 2011-03-09 |
公开(公告)号: | CN202013321U | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
发明(设计)人: | 仲佳勇;张凯;赵刚 | 申请(专利权)人: | 中国科学院国家天文台 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45;G01R33/12;G01R33/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100012 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于激光等离子体光学诊断的干涉仪,尤其是一种多通道干涉仪。用背光法或干涉法测密度及用法拉第旋转效应测磁场目前已广泛应用于激光等离子体和磁性材料的探测研究中。一般采用超快探针光照射待测物体,通过分光技术可以多通道测量待测样品的阴影图像、干涉条纹和磁性偏转特征。本实验仪将待测物形状测量系统、待测物磁场测量系统和等离子体密度测量系统集成,统一固定在一个光学平台上,操作简单,实验方便,有利于等离子体状态的研究,尤其在测量激光等离子体自生磁场和等离子体状态上减少了激光打靶发次,节约成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 通道 干涉仪 | ||
【主权项】:
一种多通道干涉仪,包括一激光器(11),还包括在一底座(10)上并排设置的一待测物形状测量系统、一待测物磁场测量系统和一待测物电子密度测量系统,其特征在于:所述激光器(11)用于产生偏振的探针激光;所述待测物形状测量系统包括一第一分束镜(31)和一第一成像透镜(41),用于测量待测物(21)的形状;所述待测物磁场测量系统包括一第二分束镜(32)、一第二成像系统(42)和一第一偏振片(61),用于测量所述待测物(21)的磁场;所述待测物电子密度测量系统包括一反向镜(71)和一Normaski干涉仪系统(9),用于测量所述待测物(21)的电子密度。
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