[实用新型]基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统无效
| 申请号： | 201120061617.6 | 申请日： | 2011-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN202030819U | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 贺超英 | 申请（专利权）人： | 中南林业科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 410004 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，包括支架和真空腔，透镜设置在支架下端的支架底座上，在支架的底端设有反射镜，在支架的上端设有光束扫描装置，真空腔上设有用于激光投射进来的激光射入口，真空腔内安装有靶材和衬底，激光依次经透镜、反射镜和光束扫描装置形成激光光束，激光光束穿过激光射入口投射到靶材上。该基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统结构简单、易于控制、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 脉冲 激光 沉积 薄膜 制备 系统 | ||
【主权项】：
一种基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，其特征在于，包括支架和真空腔，透镜设置在支架下端的支架底座上，在支架的底端设有反射镜，在支架的上端设有光束扫描装置，真空腔上设有用于激光投射进来的激光射入口，真空腔内安装有靶材和衬底，激光依次经透镜、反射镜和光束扫描装置形成激光光束，激光光束穿过激光射入口投射到靶材上。
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