[实用新型]滑盖稳定同步机构有效
| 申请号： | 201120082779.8 | 申请日： | 2011-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN201976380U | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 买健诚;戴伟翰;徐安赐 | 申请（专利权）人： | 富世达股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/03 | 分类号： | H05K5/03;H05K5/02 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 中国台湾新北市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种滑盖稳定同步机构，包括滑座、基座及弹性抵触组件，其中所述滑座在邻近二旁侧的部位设有平行延伸的导滑部，所述基座则在二旁侧设有可与所述导滑部相结合的夹套部，二弹性抵触组件分别设于所述二夹套部上，所述二个弹性抵触组件分别以至少局部部位直接或间接地弹性抵压在所述导滑部上，使基座得以沿导滑部延伸方向保持不易偏摆且稳定顺畅的滑动。 | ||
| 搜索关键词： | 稳定 同步 机构 | ||
【主权项】：
一种滑盖稳定同步机构，其特征在于，至少包括：一滑座，设有二个平行延伸的导滑部；一基座，设有二个与所述导滑部相结合的夹套部，所述基座沿导滑部与滑座产生相对的移动；至少一弹性抵触组件，设于至少一夹套部上，所述弹性抵触组件以其至少局部对夹套部与导滑部之间形成弹性抵压。
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