[实用新型]一种半导体抗浪涌保护器件的结构有效

专利信息
申请号: 201120089163.3 申请日: 2011-03-30
公开(公告)号: CN202067791U 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: 李建利 申请(专利权)人: 百圳君耀电子(深圳)有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/06;H01L29/73
代理公司: 深圳市智科友专利商标事务所 44241 代理人: 孙子才
地址: 518173 广东省深圳市龙岗*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种半导体抗浪涌保护器件的结构,由两个或四个保护单元组成,每个保护单元均由一个PN结二极管、一个PNPN型晶闸管和一个NPN三极管连接构成,在N型半导体衬底基片正面的NPN三极管发射区采用了场板结构;其发射区自上而下采用了N+及N-两次掺杂。本实用新型可应用于程控交换机上对用户线接口电路(SLIC)板实现保护,以上改进可以有效控制NPN三极管的共基极电流放大倍数,提高EB结的反向击穿电压,从而提高器件的保护工作电压,使其达到170V以上。
搜索关键词: 一种 半导体 浪涌保护器 结构
【主权项】:
一种半导体抗浪涌保护器件的结构,包括基片(9),其特征在于:在所述的基片(9)上一对角线上设置晶闸管区(11),另一对角线上设置二极管区(10),中间设置三极管区(12);所述的晶闸管区(11)包括所述的基片(9)上从上到下掺杂形成晶闸管N+扩散区、晶闸管P扩散区(14)、未掺杂的晶闸管N区、最下面是掺杂的晶闸管背面P+区(15);所述的二极管区(10)在所述的基片(9)上面掺杂形成二极管P+区,基片(9)下面掺杂形成的二极管N+区(17);所述的三极管区(12)从上到下掺杂形成的三极管N+发射区(21)、三极管P区(23)和三极管N+区(16);在所述的晶闸管区(11)、二极管区(10)和三极管区(12)的下侧设置有背面金属层(18),在所述的晶闸管区(11)、二极管区(10)的上面设置有正面金属层(19),在所述的三极管区(12)上面设置有场板(22),所述的场板(22)的边缘大于所述的三极管区(12)的三极管N+发射区,在所述的晶闸管区(11)、二极管区(10)和三极管区(12)的上面,晶闸管区(11)、二极管区(10)和三极管区(12)之间填充绝缘介质层(20)。
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