[实用新型]印刷电路板显影曝光底片无效
| 申请号： | 201120105111.0 | 申请日： | 2011-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN202008575U | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 徐瑜繁 | 申请（专利权）人： | 徐瑜繁 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京华扬知识产权代理事务所(普通合伙) 11317 | 代理人： | 韩丰年;朱栋梁 |
| 地址： | 中国台湾桃*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型关于一种印刷电路板显影曝光底片，在该底片上形成有线路图样以及对位孔图样，因此可于曝光显影步骤中在该印刷电路板上同时显影出线路的图样以及对位孔的位置，之后再在该印刷电路板钻设出各对位孔，由此，即使底片因周围温度或湿度的变化而产生胀缩，该印刷电路板上所形成的线路与对位孔的相对位置也不会改变，因此只要利用一般的电测治具即可顺利地进行检测，准时将检测结果交予客户，无需使用费时、费工或昂贵的测试机具。 | ||
| 搜索关键词： | 印刷 电路板 显影 曝光 底片 | ||
【主权项】：
一种印刷电路板显影曝光底片，其特征在于，所述底片为一片体，在该片体上形成有线路图样以及对位孔图样。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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