[实用新型]一种抛光垫清洁装置及抛光装置有效

专利信息
申请号: 201120123174.9 申请日: 2011-04-25
公开(公告)号: CN202053164U 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 邓武锋 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: B24B37/04 分类号: B24B37/04
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提出一种抛光垫清洁装置及抛光装置,包括:清洁臂,设于所述抛光垫上方并能够相对所述抛光垫运动,其内部设有至少一路送气管和至少一路吸气管;多个喷嘴,设于所述清洁臂靠近所述抛光垫的底面上,并分别与所述送气管或吸气管相通。通过对送气管送气后,与送气管相通的喷嘴会将抛光垫上的工艺副产物吹起,同时对吸气管吸气后,与吸气管相通的喷嘴会将被吹起的工艺副产物吸走,该清洁装置结构简单,操作方便,能在抛光制程中将抛光垫上的工艺副产物物清理干净,保持晶片抛光速率的稳定性,减少抛光缺陷,提高晶片抛光性能和工艺效率,同时延长抛光垫和修整器的使用寿命,适用于各种抛光制程。
搜索关键词: 一种 抛光 清洁 装置
【主权项】:
一种抛光垫清洁装置,用于清洁抛光垫,其特征在于,包括:清洁臂,设于所述抛光垫上方并能够相对所述抛光垫运动,其内部设有至少一路送气管和至少一路吸气管;多个喷嘴,设于所述清洁臂靠近所述抛光垫的底面上,并分别与所述送气管或吸气管相通。
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