[实用新型]一种电弧离子镀设备无效

专利信息
申请号: 201120127450.9 申请日: 2011-04-26
公开(公告)号: CN202072760U 公开(公告)日: 2011-12-14
发明(设计)人: 杜昊;赵彦辉;肖金泉;宋贵宏;熊天英 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 许宗富
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉及薄膜和涂层制备领域,为一种用以在长管内表面和深孔器件孔内壁沉积薄膜或涂层的电弧离子镀设备,该电弧离子镀设备设有三套磁场发生装置,对阴极靶发射的金属离子流进行聚束的第一磁场发生装置,在真空室外与阴极靶后面对应的位置;对金属离子流进行聚束的第二磁场发生装置,设置在真空室内阴极靶与工件之间,将已聚束金属离子流发散并向长管内表面或深孔内壁高速运动的第三磁场发生装置,设置于真空室内工件的外周,脉冲偏压电源,于对向长管内表面或深孔内壁运动的金属离子进一步加速,本实用新型解决了在长管内表面和深孔器件孔内壁沉积薄膜或涂层的技术难题;保证了薄膜或涂层的均匀性和质量,减少了所沉积薄膜或涂层中大颗粒的含量。
搜索关键词: 一种 电弧 离子镀 设备
【主权项】:
一种电弧离子镀设备,其特征在于:该电弧离子镀设备设有三套磁场发生装置,包括:用于对阴极靶发射的金属离子流进行聚束的第一磁场发生装置,设置在真空室外与阴极靶后面对应的位置;所述第一磁场发生装置为在中间安装镀镍纯铁的电磁线圈或者环形永磁体,该电磁线圈或环形永磁体通过圆形或矩形的第一支撑筒/架固定在与电弧离子镀设备外壳连接的可移动工作台上,第一磁场发生装置的中心轴与阴极靶的中心轴重合,通过移动工作台调整电磁线圈或环形永磁体与阴极靶之间的距离;用于同第一磁场发生装置配合对金属离子流进行聚束的第二磁场发生装置,设置在真空室内阴极靶与工件之间,通过圆形或矩形的第二支撑筒/架固定在与真空室壁相连的工作台上;用于将已聚束金属离子流发散并向长管内表面或深孔内壁高速运动的第三磁场发生装置,设置于真空室内工件的外周,通过圆形或矩形第三支撑筒/架绝缘固定在与真空室壁相连的工作台上;一脉冲偏压电源,阳极接于工件内孔中心悬空的工件辅助电极和真空室壁并接地,阴极与真空室内的第三支撑筒/架相连。
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