[实用新型]具有钡涂层的石英坩埚有效
| 申请号： | 201120127793.5 | 申请日： | 2011-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN202124672U | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 沈福茂 | 申请（专利权）人： | 沈福茂 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 730000 甘肃省*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种石英坩埚，尤其是涉及一种具有钡涂层的石英坩埚，包括石英坩埚本体，所述石英坩埚呈圆形结构，在锅底(7)与锅体(2)之间设有圆弧形过度(6)，其特征是：在锅体(2)的内侧面设有全覆盖的锅体钡涂层(3)，锅底(7)上设有全覆盖的底部钡涂层(5)，所述锅体(2)内侧面与锅底(7)之间设有圆弧形过度钡涂层(4)；本实用新型通过在锅体的内部面均匀的设置钡涂层，通过本实用新型对于石英坩埚的改良，有效地延长了石英坩埚的使用时间，不仅提高了拉晶的成品率，而且使石英坩埚的强度得到增强，克服了石英坩埚热熔引起单晶硅的质量降低。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 涂层 石英 坩埚 | ||
【主权项】：
一种具有钡涂层的石英坩埚，包括石英坩埚本体，所述石英坩埚呈圆形结构，在锅底(7)与锅体(2)之间设有圆弧形过度(6)，其特征是：在锅体(2)的内侧面设有全覆盖的锅体钡涂层(3)，锅底(7)上设有全覆盖的底部钡涂层(5)，所述锅体(2)内侧面与锅底(7)之间设有圆弧形过度钡涂层(4)形成石英坩埚内的钡涂层全覆盖结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈福茂，未经沈福茂许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201120127793.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
