[实用新型]一种去除率模型可控的磁流变均匀抛光装置无效
| 申请号： | 201120142304.3 | 申请日： | 2011-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN202097608U | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 贺新升;高春甫;王彬;王冬云;卾世举;朱喜林 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 | 代理人： | 魏征骥 |
| 地址： | 浙江省金*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种去除率模型可控的磁流变均匀抛光装置，属于光整加工领域。主轴电机由支架固连于z轴工作台上，齿轮通过联轴器与主轴电机相连，齿轮上的同步带与磁极相连，支架通过滚动轴承将磁极固连于z轴工作台上，集电环一端固定在悬梁臂上，悬梁臂与z轴工作台固定连接。优点是结构新颖，是磁流变抛光方法的核心工具，通过逆构磁极获得所需磁场分布，以获得抛光区域内均匀去除率的磁流变抛光技术路线，能够完成抛光作业。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 模型 可控 流变 均匀 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种去除率模型可控的磁流变均匀抛光装置，其特征在于：主轴电机由支架固连于z轴工作台上，齿轮通过联轴器与主轴电机相连，齿轮上的同步带与磁极相连，支架通过滚动轴承将磁极固连于z轴工作台上，集电环一端固定在悬梁臂上，悬梁臂与z轴工作台固定连接。
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