[实用新型]激光光刻机有效

专利信息
申请号: 201120149370.3 申请日: 2011-04-27
公开(公告)号: CN202114400U 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 陈猷仁;林坤荣 申请(专利权)人: 瑞世达科技(厦门)有限公司
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36;B23K26/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361009 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型提供了一种激光光刻机,尤其是应用于大尺寸触控面板采用激光蚀刻的表面保护层处理方法。本实用新型的激光光刻机,包括激光器、聚焦透镜组、控制器、驱动电机和定位平台,所述激光器发出激光光束,该激光光束经过所述聚焦透镜组投射于所述定位平台上的工件表面。本实用新型是采用激光直接蚀刻于膜层表面形成所需图案的方法,可应用于大尺寸触控面板的加工,无需光罩,实现采用快速单步图案化制程取代网版印刷制程或者是多步有光罩的光刻制程,降低生产成本。
搜索关键词: 激光 光刻
【主权项】:
一种激光光刻机,其特征在于,包括激光器(10)、聚焦透镜组、控制器、驱动电机和定位平台,所述激光器(10)发出激光光束,该激光光束经过所述聚焦透镜组投射于所述定位平台上的工件(100)表面;所述控制器控制所述驱动电机的运转状态;所述驱动电机连接并受控于所述控制器,其输出连接于所述聚焦透镜组,控制所述聚焦透镜组使得所述激光光束投射在所述工件(100)表面的预定区域内。
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