[实用新型]一种电子束浅熔池熔炼用水冷装置有效

专利信息
申请号: 201120155479.8 申请日: 2011-05-16
公开(公告)号: CN202063729U 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: 战丽姝;谭毅;顾正 申请(专利权)人: 大连隆田科技有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 大连星海专利事务所 21208 代理人: 于忠晶
地址: 116025 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型属于用物理冶金技术提纯多晶硅的技术领域。一种电子束浅熔池熔炼用水冷装置,支撑底座内安装有水冷支撑杆,石墨块安装于水冷支撑杆的上方,支撑底座上一侧固定两根水冷连通轴,水冷铜套环采用相对成圆形的两瓣式结构,每瓣套环的一侧有套孔,套孔与水冷连通轴套装,每瓣套环可围绕水冷连通轴转动,套环的另一侧设有开闭装置,每瓣套环中开有冷却水通道,套环开闭装置一侧的支撑底座上安装有结晶器。本实用新型装置结构紧凑,构思独特,在硅锭的外壁套上多层铜套环,在铜套环中形成浅层熔池,熔炼后去除磷杂质,此装置使得熔化提纯时间减少,整体提纯时间减少,能耗降低,效率提高,去除效果良好,适合大规模工业化生产。
搜索关键词: 一种 电子束 熔池 熔炼 水冷 装置
【主权项】:
一种电子束浅熔池熔炼用水冷装置,支撑底座内安装有水冷支撑杆,石墨块安装于水冷支撑杆的上方,其特征是:支撑底座上一侧固定两根水冷连通轴,水冷铜套环采用相对成圆形的两瓣式结构,每瓣套环的一侧有套孔,套孔与水冷连通轴套装,每瓣套环可围绕水冷连通轴转动,套环的另一侧设有开闭装置,每瓣套环中开有冷却水通道,套环开闭装置一侧的支撑底座上安装有结晶器。
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