[实用新型]一种液晶显示器用掩膜板有效
申请号: | 201120156190.8 | 申请日: | 2011-05-16 |
公开(公告)号: | CN202177777U | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 张锋;吕敬;戴天明;姚琪 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 程立民;张颖玲 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种液晶显示器用掩膜板,用于解决大尺寸、高分辨率、高刷新频率液晶面板在生产过程中,使用小尺寸掩膜板进行组合曝光时,曝光交界线缝合程度不好,影响显示质量甚至造成不良品的技术问题。本实用新型提供的数据线层掩膜板将数据线曝光时的曝光交界线的位置调整至像素中,有效解决大尺寸、高分辨率、高刷新频率液晶面板制造过程中组合曝光的问题,使两次曝光交界线两条数据线之间的距离和数据线宽度不受影响,从而提高显示质量以及良品率,降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 液晶显示 器用 掩膜板 | ||
【主权项】:
一种液晶显示器用掩膜板,其特征在于,掩膜板两个曝光区域之间的交界线位于子像素的像素区内。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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