[实用新型]研磨抛光轮结构有效
| 申请号： | 201120178098.1 | 申请日： | 2011-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN202192557U | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 林顺忠 | 申请（专利权）人： | 林顺忠 |
| 主分类号： | B24D13/10 | 分类号： | B24D13/10;B24D13/18 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 马铁良 |
| 地址： | 中国台湾台南市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种研磨抛光轮结构，包含一主轴、一外盘及一内盘，其主要系将内盘放置于外盘之容置空间内，再将主轴之下端面与外盘之上端面结合，使该内、外盘可同时结合于主轴上；并利用第一研磨件与第二研磨件之沟槽与排水槽之设置，使该研磨抛光轮除了能够将研磨及抛光之工序整合于同一工序中完成外，亦具有单独替换与排水之作用，能同时进行冲屑、冷却之动作，进而提升晶圆研磨抛光工序之良率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 抛光轮 结构 | ||
【主权项】：
一种研磨抛光轮结构，其特征在于，包含：一主轴，系安装于研磨机台之驱动轴上，具有一下端面，该下端面凸伸一出水头；一外盘，具有一上端面与一容置空间，该上端面设有一第一轴孔可与主轴之下端面与出水头结合，该容置空间外围环绕之底部设有第一研磨件，且该第一研磨件上设有复数个径向延伸之沟槽；一内盘，系活动设置于外盘之容置空间内，具有一上盘体与一下端部，并于中央设有一凹部，该上盘体设有一第二轴孔，可对应第一轴孔与出水头结合，再于下端部上设有第二研磨件，且该第二研磨件上设置有复数道排水槽。
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