[实用新型]激光镭射电磁屏蔽膜有效
| 申请号： | 201120180305.7 | 申请日： | 2011-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN202062740U | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 陈显东 | 申请（专利权）人： | 温州宏达激光图像有限公司 |
| 主分类号： | B32B15/04 | 分类号： | B32B15/04;B32B15/20;B32B27/06;B32B27/36;B32B33/00 |
| 代理公司： | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人： | 王梨华;陈丽霞 |
| 地址： | 325802 浙江省温*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种镭射膜，公开了一种防静电的激光镭射电磁屏蔽膜，包括PET膜，PET膜上涂有一层镭射介质层，镭射介质层上压印有一层激光镭射层，激光镭射层上镀有镀铝层，镀铝层上涂有电磁屏蔽层。电磁屏蔽层能够更好的防静电。按照本实用新型的技术方案，激光镭射电磁屏蔽膜不仅美观、防伪能力强，还可广泛用于工业电磁屏蔽领域的防伪。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 镭射 电磁 屏蔽 | ||
【主权项】：
激光镭射电磁屏蔽膜，包括PET膜（1）， PET膜（1）上涂有一层镭射介质层（2），镭射介质层（2）上压印有一层激光镭射层（3），激光镭射层（3）上镀有镀铝层（4），其特征在于：所述的镀铝层（4）上涂有电磁屏蔽层（5）。
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