[实用新型]一种高增益雪崩二极管有效
申请号: | 201120199948.6 | 申请日: | 2011-06-14 |
公开(公告)号: | CN202142546U | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 郭霞;关宝璐;周弘毅;郭帅;陈树华 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/107 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 刘萍 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种高增益雪崩二极管涉及半导体器件领域,具体涉及一种能够对微弱光进行探测的雪崩二极管。现有的雪崩二极管普遍由于热生载流子和高场产生的隧道电流的存在,存在室温下暗电流大的问题,这样直接导致信噪比小,增益低,因此通常需要低温下工作。高增益雪崩二极管包括有依次纵向层叠的n型欧姆接触电极,由n型重掺杂层,电荷倍增区,p型重掺杂层组成的雪崩区,吸收区,吸收区上设有p型欧姆接触电极和p型欧姆接触层,其特征在于,雪崩区横向尺寸为纳米级尺寸。该高增益雪崩二极管能够大大降低器件总的暗电流,从而提高器件增益,提高探测频率。 | ||
搜索关键词: | 一种 增益 雪崩 二极管 | ||
【主权项】:
一种高增益雪崩二极管,包括有依次纵向层叠的n型欧姆接触电极,由n型重掺杂层,电荷倍增区,p型重掺杂层组成的雪崩区,吸收区,吸收区上设有p型欧姆接触电极和p型欧姆接触层,其特征在于,雪崩区横向尺寸为纳米级尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120199948.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:太阳光对应装置
- 下一篇:一种晶体硅太阳能电池的电极
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的