[实用新型]一种PECVD用基板架自动识别装置有效
| 申请号： | 201120215055.6 | 申请日： | 2011-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN202131369U | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 崔献刚;李松;王晖;吉星;白玉峰;韩永兵;宋文杰 | 申请（专利权）人： | 河南新能光伏有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52 |
| 代理公司： | 安阳市智浩专利代理事务所 41116 | 代理人： | 张智和 |
| 地址： | 455000 河南省*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型公布了一种PECVD用基板架自动识别装置，属于机电设备领域，该装置包括基板架，在基片架行程起始位置设置有接近开关，在基片架前端设置有接近体安装位，安装位内可选择安装或不安装接近体，本装置能够自动识别、记录基板架行程，提高记录准确率，降低劳动强度，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pecvd 用基板架 自动识别 装置 | ||
【主权项】：
一种PECVD用基板架自动识别装置，包括基板架（1）,其特征在于：在基片架（1）行程起始位置设置有接近开关（2），在基片架（1）前端设置有接近体安装位，安装位内可选择安装或不安装接近体。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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