[实用新型]一种横卧往复式物理气相沉积法镀陶瓷离子镀膜机有效
| 申请号： | 201120238545.8 | 申请日： | 2011-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN202246846U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 王殿儒 | 申请（专利权）人： | 王殿儒;伍振良;林敏 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/32;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100098 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种横卧往复式物理气相沉积法镀陶瓷离子镀膜机，它是在三段真空室之间相互由真空阀门隔离，阀门按工艺所需程序开启或关闭，第一段真空室为进料加热、烘烤与处理室，第二段真空室为物理气相沉积法镀陶瓷的镀膜室，室壁安装多个电弧蒸发离化源和多个磁控溅射源，被镀陶瓷工件在运行架上可往复运动或连续前进、后退，第三段真空室为出料后处理冷却室。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 往复 物理 沉积 陶瓷 离子 镀膜 | ||
【主权项】：
一种横卧往复式物理气相沉积法镀陶瓷离子镀膜机，其特征是三段真空室之间相互由真空阀门隔离，阀门按工艺所需程序开启或关闭，第一段真空室为进料加热、烘烤预处理室，第二段真空室为物理气相沉积法镀陶瓷的镀膜室，室壁安装多个电弧蒸发离化源和多个磁控溅射源，被镀陶瓷工件在运行架上可往复运动或连续前进、后退，第三段真空室为出料后处理冷却室。
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