[实用新型]真空隔绝室密封装置有效

专利信息
申请号: 201120255853.1 申请日: 2011-07-19
公开(公告)号: CN202142507U 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 徐磊 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及一种真空隔绝室密封装置,用于真空隔绝室的密封,真空隔绝室一侧壁上具有开口,该侧壁为封接面壁,开口边缘上设有密封件,该真空隔绝密封装置包括隔绝门,所述隔绝门由导磁材料制成,所述真空隔绝室的封接面壁上设有电磁石。在密闭真空隔绝室时,磁铁吸力吸住隔绝门使隔绝门完全贴合封接面壁,抽真空时处于密封状态,气体不会渗入。所述真空隔绝室密封装置具有结构简单,密封效果好,成本低的优点。
搜索关键词: 真空 隔绝 密封 装置
【主权项】:
一种真空隔绝室密封装置,用于真空隔绝室的密封,真空隔绝室一侧壁上具有开口,该侧壁为封接面壁,开口边缘上设有密封件,该真空隔绝密封装置包括隔绝门,其特征在于:所述隔绝门由导磁材料制成,所述真空隔绝室的封接面壁上设有电磁石。
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