[实用新型]改善光照均匀性的光刻机有效
| 申请号： | 201120258010.7 | 申请日： | 2011-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN202133859U | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 王诚;刘庆锋 | 申请（专利权）人： | 上海先进半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 200233 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种改善光照均匀性的光刻机，位于洁净室中，光刻机包括：光刻机本体；风管，与光刻机本体相连接，用于抽取空气并将其吹送到光刻机的镜头组表面；其中，风管的进风口靠近于洁净室顶部的碳吸附过滤器的下方。本实用新型吹送到镜头组表面的空气可以达到纯净要求，保护了镜头组不受太多腐蚀性气体的腐蚀和微小颗粒的污染。与现有技术相比，在改造之后光照均匀性数据变化稳定，大大提高了产品的良率，同时每年可以节省下更换光学数字过滤镜/梯度过滤镜的大量费用，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 光照 均匀 光刻 | ||
【主权项】：
一种改善光照均匀性的光刻机，位于洁净室中，其特征在于，所述光刻机包括：光刻机本体；风管，与所述光刻机本体相连接，用于抽取空气并将其吹送到所述光刻机的镜头组表面；其中，所述风管的进风口靠近于所述洁净室顶部的碳吸附过滤器的下方。
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