[实用新型]一种磁控溅射靶靶材消耗的监控管理装置有效
| 申请号： | 201120264206.7 | 申请日： | 2011-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN202246842U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 夏尚德;谢青华;徐龙海 | 申请（专利权）人： | 深圳天泽镀膜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 广东广和律师事务所 44298 | 代理人： | 刘敏 |
| 地址： | 518115 广东省深圳市龙*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种磁控溅射靶靶材消耗的监控管理装置，包括：依次连接的直流电源单元、中央控制单元、模数转换单元及终端，所述终端同时与中央控制单元连接，模数转换单元同时与靶电源连接。本实用新型可实时记录溅射靶靶材的主要工艺参数，并根据该主要工艺参数来计算靶材的消耗量、厚度等，最终通过动态曲线显示，有助于实现成本控制、品质控制等。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 靶靶材 消耗 监控 管理 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶靶材消耗的监控管理装置，其特征在于，包括：依次连接的直流电源单元、中央控制单元、模数转换单元及终端，所述终端同时与中央控制单元连接，模数转换单元同时与靶电源连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳天泽镀膜有限公司，未经深圳天泽镀膜有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201120264206.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
