[实用新型]采用卤钨灯滤光模拟的D65光源有效
申请号: | 201120268501.X | 申请日: | 2011-07-27 |
公开(公告)号: | CN202177452U | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 陈岳;高虹霞 | 申请(专利权)人: | 杭州轻通博科自动化技术有限公司 |
主分类号: | G01J3/10 | 分类号: | G01J3/10 |
代理公司: | 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 | 代理人: | 韩小燕 |
地址: | 310015 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种采用卤钨灯滤光模拟的D65光源。本实用新型的目的是提供一种采用卤钨灯滤光模拟的D65光源,目的在于弥补卤钨灯滤光法中紫外辐射不足的缺陷,模拟出符合技术要求的模拟D65照明体,且产品还应经济实用、性能可靠、易于推广。本实用新型的技术方案是:采用卤钨灯滤光模拟的D65光源,其特征在于:包括带有两个光线入射口及底部放置试样的中空漫反射球,用于产生紫外辐射并射入漫反射球内、平行光照射试样的第一光路,以及射入漫反射球内至少经过两次漫反射后照射试样的第二光路;所述第一光路和第二光路以卤钨灯为共同的光源。本实用新型适用于测量荧光物体的白度和颜色。 | ||
搜索关键词: | 采用 卤钨灯 滤光 模拟 sub 65 光源 | ||
【主权项】:
一种采用卤钨灯滤光模拟的D65光源,其特征在于:包括带有两个光线入射口及底部放置试样(8)的中空漫反射球(9),用于产生紫外辐射并射入漫反射球(9)内、平行光照射试样(8)的第一光路,以及射入漫反射球(9)内至少经过两次漫反射后照射试样(8)的第二光路;所述第一光路和第二光路以卤钨灯(10)为共同的光源。
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