[实用新型]多晶或单晶硅原料清洗用超声波溢流清洗装置有效
| 申请号： | 201120269565.1 | 申请日： | 2011-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN202162176U | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 周罗洪;王如军;高俊 | 申请（专利权）人： | 江苏兆晶光电科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12 |
| 代理公司： | 北京市惠诚律师事务所 11353 | 代理人： | 王美华 |
| 地址： | 213200 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种多晶或单晶硅原料清洗用超声波溢流清洗装置，包括清洗水池和设置在清洗水池内的超声波发生器，清洗水池内装有清洗液并具有循环补水装置，所述的超声波发生器分别设置在清洗水池的侧壁和底部，还具有对清洗液加热的加热装置。本实用新型的多晶或单晶硅原料清洗用超声波溢流清洗装置在清洗水池的侧面和底面均设有超声波发生器，效果更好，且具有加热装置，进一步提高清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 单晶硅 原料 清洗 超声波 溢流 装置 | ||
【主权项】：
一种多晶或单晶硅原料清洗用超声波溢流清洗装置，包括清洗水池(1)和设置在清洗水池(1)内的超声波发生器(2)，清洗水池(1)内装有清洗液并具有循环补水装置，其特征在于：所述的超声波发生器(2)分别设置在清洗水池(1)的侧壁(11)和底部(12)，还具有对清洗液加热的加热装置(3)。
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