[实用新型]设有外支撑的射频连接结构有效
申请号: | 201120270597.3 | 申请日: | 2011-07-28 |
公开(公告)号: | CN202201975U | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 郭锋 | 申请(专利权)人: | 上海曙海太阳能有限公司 |
主分类号: | C23C16/505 | 分类号: | C23C16/505;C23C16/24 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 雷绍宁 |
地址: | 201300 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型设有外支撑的射频连接结构,其用于气相沉积反应腔,包括第一射频电缆和第二射频电缆,第一射频电缆的一端与第二射频电缆的中部相连并导通,第二射频电缆的两端分别与两个电极盒相连,还包括T形支撑架,T形支撑架由套设在第一射频电缆上的第一支撑管和套设在第二射频电缆上的第二支撑管构成,第一支撑管的一端固定在第二支撑管上,第一支撑管的另一端固定在气相沉积反应腔的底板上。本实用新型设有外支撑的射频连接结构,通过外部支撑架的支撑,防止射频电缆的弯曲,也减少了固定焊点,增加了射频连接结构在真空和高温环境下的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 设有 支撑 射频 连接 结构 | ||
【主权项】:
一种设有外支撑的射频连接结构,包括第一射频电缆(1)和第二射频电缆(2),第一射频电缆的端部与第二射频电缆的中部相连并导通,第二射频电缆的两端分别与两个电极盒电连接,其特征在于,还包括T形支撑架,T形支撑架由套设在所述第一射频电缆上的第一支撑管(9)和套设在第二射频电缆上的第二支撑管(3)构成,第一支撑管(9)的一端固定在第二支撑管(3)上,第一支撑管(9)的另一端固定在气相沉积反应腔的底板上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的