[实用新型]新型原子层沉积设备有效
申请号: | 201120271463.3 | 申请日: | 2011-07-28 |
公开(公告)号: | CN202193841U | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 陈宇林;王东君 | 申请(专利权)人: | 英作纳米科技(北京)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 张颖玲;迟姗 |
地址: | 100085 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种新型原子层沉积设备,包括:载气管路、反应源管路、反应腔体、抽气管路及真空泵,载气管路与反应源相连通,反应源管路分别与反应源及反应腔体相连通,抽气管路分别与反应腔体及真空泵相连通;反应腔体上设置有闭合状的外层密封圈及内层密封圈,外层密封圈、内层密封圈、反应腔体上位于外层密封圈及内层密封圈之间的外表面部分、以及反应腔体的闭合舱门之间形成密封通道,密封通道分别与密封通道进气管路及密封通道抽气管路相连通,密封通道抽气管路与抽气管路相连通;抽气管路上设置有流量调节装置。本实用新型的原子层沉积设备,能够提供良好的密封性能,对于高宽深比的复杂三维结构具有良好的沉积效果。 | ||
搜索关键词: | 新型 原子 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种新型原子层沉积设备,包括:载气管路、反应源管路、反应腔体、抽气管路及真空泵,所述载气管路与反应源相连通,所述反应源管路分别与所述反应源及所述反应腔体相连通,所述抽气管路分别与所述反应腔体及所述真空泵相连通;其特征在于,所述反应腔体上设置有闭合状的外层密封圈及内层密封圈,其中,所述外层密封圈、所述内层密封圈、所述反应腔体上位于所述外层密封圈及所述内层密封圈之间的外表面部分、以及所述反应腔体的闭合舱门之间形成密封通道,所述密封通道分别与密封通道进气管路及密封通道抽气管路相连通,所述密封通道抽气管路与所述抽气管路相连通;所述抽气管路上设置有流量调节装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的