[实用新型]一种用于透射电镜薄膜样品预减薄研磨的固定结构有效

专利信息
申请号: 201120275063.X 申请日: 2011-07-30
公开(公告)号: CN202255998U 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 孙超;林名轩;杨善武;郭晖;王学敏;尚成嘉;贺信莱 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28
代理公司: 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) 11296 代理人: 刘淑芬
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种在对制备透射电镜薄膜样品进行预减薄研磨时使样品固定的结构。所述结构具有“粘接剂层+溶剂引导层+粘接剂层”的复合结构。依次具体包括:双面胶隔离纸层+双面胶胶粘剂层+双面胶基材层+双面胶胶粘剂层+滤纸+双面胶胶粘剂层+双面胶基材层+双面胶胶粘剂层+双面胶隔离纸层。本实用新型所提出的透射电镜薄膜样品预减薄研磨固定法的特点是将“粘接介质”(双面胶)与“溶剂引导介质”(滤纸)进行复合利用,克服了利用502快干胶水或利用单层双面胶的传统固定方法中溶解溶剂难以进入样品与载物台之间狭小缝隙因而难以充分接触粘接剂并使其溶解从而导致摘取样品时间过久的严重缺陷。
搜索关键词: 一种 用于 透射 薄膜 样品 预减薄 研磨 固定 结构
【主权项】:
一种用于透射电镜薄膜样品预减薄研磨的固定结构,其特征在于:所述结构从上往下,依次包括:双面胶隔离纸层,双面胶胶粘剂层,双面胶基材层,双面胶胶粘剂层,滤纸,双面胶胶粘剂层,双面胶基材层,双面胶胶粘剂层及双面胶隔离纸层。
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