[实用新型]一种新型抛光磨头有效

专利信息
申请号: 201120276034.5 申请日: 2011-08-01
公开(公告)号: CN202212861U 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 许登伟 申请(专利权)人: 晋江伟业机械有限公司
主分类号: B24B41/04 分类号: B24B41/04
代理公司: 泉州市文华专利代理有限公司 35205 代理人: 廖仲禧
地址: 362200 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型提供一种新型抛光磨头,包括磨盘、主轴和固定盘,该磨盘固装在该主轴的第一端上,该主轴的第二端以可旋转的方式安装在该固定盘内,该主轴位于该磨盘与该固定盘之间的部位处设有套在该主轴外的减振装置,该磨盘面向该固定盘的一侧面上凸设有圆筒;上述减振装置为橡胶减振垫,上述橡胶减振垫的上部与上述固定盘相配合,上述橡胶减振垫的下部与上述圆筒相配合。采用上述技术方案后,本实用新型的一种新型抛光磨头,由于减振装置为橡胶减振垫,橡胶减振垫的减振效果比弹簧的减振效果好,提高了抛光磨头的整体减振效果,大大减弱了磨盘在工作过程中产生的振动。
搜索关键词: 一种 新型 抛光
【主权项】:
一种新型抛光磨头,包括磨盘、主轴和固定盘,该磨盘固装在该主轴的第一端上,该主轴的第二端以可旋转的方式安装在该固定盘内,该主轴位于该磨盘与该固定盘之间的部位处设有套在该主轴外的减振装置,该磨盘面向该固定盘的一侧面上凸设有圆筒;其特征在于:上述减振装置为橡胶减振垫,上述橡胶减振垫的上部与上述固定盘相配合,上述橡胶减振垫的下部与上述圆筒相配合。
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