[实用新型]薄膜太阳能电池的沉积装置有效
申请号: | 201120295437.4 | 申请日: | 2011-08-15 |
公开(公告)号: | CN202193842U | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 李毅;虞晓江;胡盛明 | 申请(专利权)人: | 深圳市创益科技发展有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 | 代理人: | 张艺影;李奕晖 |
地址: | 518029 广东省深圳市福*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于沉积薄膜太阳能电池的离子体增强化学气相沉积(PECVD)装置,属于太阳能电池技术领域。解决解决PECVD沉积设备工艺气体利用率低、操作复杂等技术问题。薄膜太阳能电池的沉积装置,包括真空室和沉积盒,沉积盒的框架上装有进气室和混气室,沉积盒是由至少两个沉积腔室相互串联连接构成的多级沉积腔体,相邻沉积腔室之间由混气室连接,每个沉积腔室内均设有电极板,电极板上装有沉积基片。本实用新型采用多级沉积腔体结构,各级沉积腔体通过相互之间的混气室得到有效连接,有效地提高了PECVD薄膜制备过程中对工艺气体的利用率。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 太阳能电池 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜太阳能电池的沉积装置,包括真空室(01)和沉积盒(02),其特征在于所述沉积盒(02)的框架(21)上装有进气室(25)和混气室(23),沉积盒(02)是由多个沉积腔室构成的多级沉积腔体,相邻沉积腔室之间有混气室(23)连接;每个沉积腔室内均设有电极板(26),该电极板上装有沉积基片。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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