[实用新型]高隔离度CWDM薄膜滤光片有效

专利信息
申请号: 201120299252.0 申请日: 2011-08-17
公开(公告)号: CN202275171U 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 赵战刚;范卫星;王鹏飞 申请(专利权)人: 奥普镀膜技术(广州)有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02B1/11;B32B17/06;B32B9/04
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 代理人: 刘媖
地址: 510730 广东省广州市降*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种高隔离度CWDM薄膜滤光片。高隔离度CWDM薄膜滤光片,包括基板(1),基板(1)的一面设有正面膜系(2),另一面设有反面膜系(3),所述的基板(1)采用厚度为1毫米玻璃为基板,其表面平面度为光圈N<3,局部光圈ΔN<0.4,表面光洁度B=III;所述的正面膜系(2)为基于12个法布里-珀罗串联;所述的反面膜系(3)为增透膜。本实用新型通过法布里-珀罗腔数、串联方式、连接层非规整控制等较好的解决高陡度滤光片通道平坦度问题,透射率可以达到98%以上,通过此滤光片可以提高器件相邻通道隔离度,将隔离度从25dB提高到46dB。
搜索关键词: 隔离 cwdm 薄膜 滤光
【主权项】:
一种高隔离度CWDM薄膜滤光片,包括基板(1),基板(1)的一面设有正面膜系(2),另一面设有反面膜系(3),其特征在于:所述的基板(1)采用厚度为1毫米玻璃为基板,其表面平面度为光 圈N<3,局部光圈ΔN<0.4,表面光洁度B=III;所述的正面膜系(2)为基于12个法布里‑珀罗串联:Ns|HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL ………HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL0.2356H1.3526L|No,膜系中:Ns表示基板(1),No表示空气,L表示厚度为λ0/4五氧化二钽膜层,H 表示厚度为λ0/4二氧化硅膜层,中心波长λ0=1470‑1610纳米;所述的反面膜系(3)为增透膜,所述的增透膜的膜层结构如下:层材料膜厚1Ta2O556.472SiO274.043Ta2O5201.864SiO2256.04。
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