[实用新型]光源系统及其应用的投影系统有效
| 申请号： | 201120313265.9 | 申请日： | 2011-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN202177773U | 公开（公告）日： | 2012-03-28 |
| 发明（设计）人： | 杨毅;樊晓军 | 申请（专利权）人： | 绎立锐光科技开发（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G02B27/18;F21V5/08;F21V7/22 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 欧阳启明 |
| 地址： | 518057 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光源系统及其应用的投影系统。此光源系统包括激光光源，用于产生第一光线；基板，包括设置于第一光线的传播路径上的至少一个分区；以及无机透明材质的散光结构，设于基板的至少一个分区上，用于散射第一光线。此光源系统可应用于投影系统。本实用新型可均匀化光源的激发光。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 系统 及其 应用 投影 | ||
【主权项】：
一种光源系统，其特征在于：所述光源系统包括：激光光源，用于产生第一光线；基板，包括设置于所述第一光线的传播路径上的至少一个分区；以及无机透明材质的散光结构，设于所述基板的所述至少一个分区上，用于散射第一光线。
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