[实用新型]一种真空涂层机有效
| 申请号： | 201120323418.8 | 申请日： | 2011-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN202246838U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 陈卫飞 | 申请（专利权）人： | 苏州鼎利涂层有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型属于真空涂层技术领域，特别是涉及一种真空涂层机。本实用新型真空涂层机包括阴极装置，阴极装置包括多个靶材。每个靶材可单独连接一个电弧发生器。本实用新型靶材体积比较小应用了多个电弧发生器，由于采用的靶材体积对应方靶小且有多个电弧发生器单独控制每个圆靶让其均匀挥发所以生产出来的涂层金属颗粒较方靶更小，从而使涂层结构更致密，涂层与被涂层工件结合力好。由于圆靶体积小靶材使用的数量比较多在工艺生产中可以使用不同材质的靶材进行复合涂层和多元化涂层的生产和开发，工艺可变性灵活性大。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 涂层 | ||
【主权项】：
一种真空涂层机，包括箱体、阴极装置和引弧装置，所述阴极装置连接电弧发生器，其特征在于，所述阴极装置包括多个靶材。
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