[实用新型]一种铜箔后处理系统中的添加剂添加装置有效

专利信息
申请号: 201120323882.7 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN202226939U 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 赵原森;韩树华;徐自鹏;杨峰;左项乐;张冰 申请(专利权)人: 灵宝华鑫铜箔有限责任公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新
地址: 472500 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型公开了一种铜箔后处理系统中的添加剂添加装置,包括添加剂药品槽,计量泵,添加剂药品槽的溶液通过计量泵输入到需要添加的溶液槽内,所述的计量泵通过后处理系统配电室接触器的常开触点与后处理系统中的控制单元的信号输出端连接,后处理机整流器的开停机信号与控制单元的信号输入端连接。本实用新型由后处理机控制单元采集整流器的开停机信号,输出控制信号给配电室的接触器,从而自动控制计量泵的启停,使添加剂均匀的加入溶液槽,保证了铜箔的电镀厚度均匀,使铜箔的质量稳定性强。
搜索关键词: 一种 铜箔 处理 系统 中的 添加剂 添加 装置
【主权项】:
一种铜箔后处理系统中的添加剂添加装置,包括添加剂药品槽,计量泵,添加剂药品槽的溶液通过计量泵输入到需要添加的溶液槽内,其特征在于:所述的计量泵通过后处理系统配电室接触器的常开触点与后处理系统中的控制单元的信号输出端连接,后处理机整流器的开停机信号与控制单元的信号输入端连接。
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