[实用新型]磁共振成像用的自屏蔽梯度线圈有效
申请号: | 201120325257.6 | 申请日: | 2011-09-01 |
公开(公告)号: | CN202189140U | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 谢寰彤;胡柱龙;胡敏敏 | 申请(专利权)人: | 上海寰彤科教设备有限公司 |
主分类号: | G01R33/385 | 分类号: | G01R33/385 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 201806 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型属于磁共振成像技术领域,具体涉及一种用于磁共振成像用的自屏蔽梯度线圈。自屏蔽梯度线圈位于磁共振成像系统的永磁体极靴之间,自屏蔽梯度线圈的内部为成像空间。所述自屏蔽梯度线圈由从内到外依次排列的内屏蔽线圈、主梯度线圈和外屏蔽线圈三组线圈组成;其截面为类似草帽的sinc函数波浪形特形曲面,定义接近永磁体极靴的面为峰点,接近成像空间的面为谷点;主梯度线圈置于峰点附近,内屏蔽线圈和外屏蔽线圈置于谷点处;主梯度线圈为顺时针旋转,内屏蔽线圈和外屏蔽线圈为逆时针旋转。本实用新型的梯度线圈具有如下特性:高空间利用效率(80%-95%)、高线性度(非线性0.7%-0.02%)和自屏蔽性(响应时间10µS-110µS)。 | ||
搜索关键词: | 磁共振 成像 屏蔽 梯度 线圈 | ||
【主权项】:
一种磁共振成像用的自屏蔽梯度线圈,自屏蔽梯度线圈在磁共振成像系统中位置如下:最外部为永磁体磁扼(1),永磁体磁扼(1)内部为永磁体磁钢(2),永磁体磁钢(2)内部附有为永磁体极靴(3),在永磁体极靴(3)之间为所述的自屏蔽梯度线圈(4),自屏蔽梯度线圈(4)的内部为成像空间(5);其特征在于所述的自屏蔽梯度线圈(4)由从内到外依次排列的内屏蔽线圈(7)、主梯度线圈(6)和外屏蔽线圈(8)三组线圈组成;所述自屏蔽梯度线圈(4)的截面为类似草帽的sinc函数波浪形特形曲面,定义接近永磁体极靴(3)的面为峰点,接近成像空间(5)的面为谷点;所述主梯度线圈(6)置于峰点附近,内屏蔽线圈(7)和外屏蔽线圈(8)置于谷点处;主梯度线圈(6)为顺时针旋转,内屏蔽线圈(7)和外屏蔽线圈(8)为逆时针旋转。
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