[实用新型]大型表膜构件用框体和大型表膜构件有效
申请号: | 201120336224.1 | 申请日: | 2011-09-02 |
公开(公告)号: | CN202351611U | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 北岛慎太郎;谷典子;松荣宏治 | 申请(专利权)人: | 旭化成电子材料株式会社 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本实用新型提供能够确保框体的制造容易性,且能抑制曝光有效面积的缩小的大型表膜构件用框体和大型表膜构件。在形成为大致矩形而铺展支承有大型表膜构件用膜(3)的大型表膜构件用框体(2)上形成至少1个接合部,在构成该大型表膜构件用框体(2)的长边(2a、2b)的一部分上形成向外侧弯曲而成的弯曲部(10a、10b)。这样,能够采用使长边(2a、2b)的一部分弯曲的简易方法,形成弯曲部(10a、10b),并且即使所铺展的大型表膜构件用膜(3)的张力使大型表膜构件用框体(2)的边向内侧发生了挠曲,也能减小该边朝向大型表膜构件用框体(2)的内侧进入的最大位移量,因此能够确保制造容易性,并且能够抑制曝光有效面积的缩小。 | ||
搜索关键词: | 大型 构件 用框体 | ||
【主权项】:
大型表膜构件用框体,其为大致矩形,具有开口部,其特征在于,上述开口部的周缘部由框构件形成,并且上述框构件由至少1个接合部接合;在构成该大型表膜构件用框体的边的一部分上形成有向外侧弯曲而成的弯曲部。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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