[实用新型]大功率半导体激光器光学整形系统有效

专利信息
申请号: 201120357532.2 申请日: 2011-09-22
公开(公告)号: CN202230249U 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 刘兴胜;杨凯;周倩倩;高毅;郑艳芳 申请(专利权)人: 西安炬光科技有限公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G02B27/30
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 徐平
地址: 710119 陕西省西安市高*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型提供一种大功率半导体激光器光学整形系统,以解决现有半导体激光器聚焦系统聚焦能量密度不高,无法将激光输出耦合入更小芯径的光纤内,从而导致输出亮度有限的技术问题。其包括在光轴上沿光源输出方向依次设置的压缩准直元件/组件、具有梯度聚焦性质的光学元件/组件。本实用新型的半导体激光器激光光源作为激光产生装置,其出射光束的发散角在快慢轴上各不相同并且相差很大,本实用新型利用梯度聚焦对半导体激光器的出射光束进行光学整形,其中,梯度聚焦的作用在于当激光光束通过它以后,激光光束进行梯度聚焦,输出的光束耦合进大于等于50um的光纤之中。本实用新型的制作工艺简单、功率高、亮度高。
搜索关键词: 大功率 半导体激光器 光学 整形 系统
【主权项】:
一种大功率半导体激光器光学整形系统,其特征在于:包括在光轴上沿光源输出方向依次设置的压缩准直元件/组件、具有梯度聚焦性质的光学元件/组件。
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