[实用新型]一种集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备有效
申请号: | 201120373015.4 | 申请日: | 2011-10-08 |
公开(公告)号: | CN202246871U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 胡增鑫;潘清涛;宋鑫;贾海军;麦耀华 | 申请(专利权)人: | 保定天威集团有限公司 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23C14/56;C23C16/54 |
代理公司: | 唐山顺诚专利事务所 13106 | 代理人: | 于文顺 |
地址: | 071051 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备,属于半导体或光伏行业中用于制备薄膜材料和器件的气相沉积设备技术领域。技术方案是包含一个中央传输室(1)、以星型排布的方式环布于该中央传输室周围的多个真空反应腔室和一个进出片室(6),各反应室及一个进出片室与中央传输室之间通过高真空门阀(7)相连。本实用新型的有益效果:将具有不同功能的真空反应腔室和一个进出片室以星型排布的方式环布于一个中央传输室周围,各反应室及进出片室与中央传输室之间以高真空门阀相连,用于真空环境下的连续镀膜,保证衬底在真空环境下完成在不同功能腔室间的传送,保证防止各腔室间的交叉污染和保证真空度。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成化 多腔室星型 结构 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】:
一种集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备,其特征在于包含一个中央传输室(1)、以星型排布的方式环布于该中央传输室周围的多个真空反应腔室和一个进出片室(6),各反应室及一个进出片室与中央传输室之间通过高真空门阀(7)相连。
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