[实用新型]表面场氧化层不连续的超结金属氧化物场效应管终端结构有效

专利信息
申请号: 201120391579.0 申请日: 2011-10-15
公开(公告)号: CN202394981U 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 孙伟锋;张龙;祝靖;林颜章;马文力;陆生礼;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 汤志武
地址: 214135 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种表面场氧化层不连续的超结金属氧化物场效应管终端结构,包括:兼做漏区的环形N型重掺杂硅衬底且所述N型重掺杂硅衬底的内、外边界为矩形,在N型重掺杂硅衬底下表面设置有漏极金属,在N型重掺杂硅衬底之上表面设有N型掺杂硅外延层,在N型掺杂硅外延层上设有超结结构,超结结构包括P型掺杂硅柱状区域和N型掺杂硅柱状区域,且型掺杂硅柱状区域和N型掺杂硅柱状区域沿所述终端结构的纵向交替排列,其特征在于,在超结结构上设有二氧化硅区和条形二氧化硅,所述条形二氧化硅位于所述终端结构纵向边上,并且,沿所述终端结构纵向平行排列,所述二氧化硅区覆盖所述终端结构的横向边。
搜索关键词: 表面 氧化 连续 金属 氧化物 场效应 终端 结构
【主权项】:
一种表面场氧化层不连续的超结金属氧化物场效应管终端结构,包括:兼做漏区的环形N型重掺杂硅衬底(4)且所述N型重掺杂硅衬底(4)的内、外边界为矩形,在N型重掺杂硅衬底(4)下表面设置有漏极金属(11),在N型重掺杂硅衬底(4)之上表面设有N型掺杂硅外延层(5),在N型掺杂硅外延层(5)上设有超结结构,超结结构包括P型掺杂硅柱状区域(6)和N型掺杂硅柱状区域(7),且P型掺杂硅柱状区域(6)和N型掺杂硅柱状区域(7)沿所述终端结构的纵向交替排列,其特征在于,在超结结构上设有二氧化硅区(8)和条形二氧化硅 (9),所述条形二氧化硅 (9) 位于所述终端结构纵向边上,并且,沿所述终端结构纵向平行排列,所述二氧化硅区(8)覆盖所述终端结构的横向边。
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