[实用新型]大视场直接投影式激光光刻光学系统

摘要

本实用新型是一种大视场直接投影式激光光刻光学系统。包括激光照明系统及激光投影成像系统，激光照明系统包括依次装设的第一柱面镜、第二柱面镜、会聚球面透镜、匀光棒、第一照明透镜、第二照明透镜、第三照明透镜、第四照明透镜、第五照明透镜，且第五照明透镜的后端装设有掩模板；激光投影成像系统包括依次装设的第一投影透镜、第二投影透镜、第三投影透镜、第四投影透镜、光阑、第五投影透镜、第六投影透镜、第七投影透镜、第八投影透镜，且第一投影透镜的前端是物面，第八投影透镜的后端装是像面，掩模板处于投影系统的物面上。本实用新型的光学系统分辨率高、焦深大、畸变小、结构简单、方便实用，可用于小型化的高端个人电子设备PCB和ITO的一次性大面积投影光刻。

主权项

一种大视场直接投影式激光光刻光学系统，包括有激光照明系统及激光投影成像系统，其中激光照明系统包括有依次装设的第一柱面镜（1）、第二柱面镜（2）、会聚球面透镜（3）、匀光棒（4）、第一照明透镜（5）、第二照明透镜（6）、第三照明透镜（7）、第四照明透镜（8）、第五照明透镜（9），且第五照明透镜（9）的后端装设有掩模板（10）；激光投影成像系统包括有依次装设的第一投影透镜（11）、第二投影透镜（12）、第三投影透镜（13）、第四投影透镜（14）、光阑（15）、第五投影透镜（16）、第六投影透镜（17）、第七投影透镜（18）、第八投影透镜（19），且第一投影透镜（11）的前端是物面（20），第八投影透镜（19）的后端装是像面（21），掩模板（10）处于投影系统的物面（20）上。