[实用新型]一种真空设备运动定位控制系统有效
申请号: | 201120443894.3 | 申请日: | 2011-11-11 |
公开(公告)号: | CN202331145U | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 戚晖;耿达;林秀青;徐英凤 | 申请(专利权)人: | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 许宗富 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型公开一种真空设备运动定位控制系统,该真空设备运动定位控制系统包括PLC、工控机、现场设备及传感器;其中,PLC为主控部件,其输入端接收现场传感器信号,与工控机进行通讯连接,输出端接现场设备,所述现场设备包括步进电机驱动器和/或交流伺服电机驱动器和电机,通过其电机接现场传感器输入端,工控机为PLC的上位机,对PLC的控制程序进行编程,通过PLC对现场设备进行控制;本系统采用参数配置方式和命令判断设计,系统把各个动作按照命令的形式进行处理,根据现场情况和工艺要求可以实现真空运动系统圆周定位。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空设备 运动 定位 控制系统 | ||
【主权项】:
一种真空设备运动定位控制系统,其特征在于包括PLC、工控机、传感器及现场设备;其中,PLC为主控部件,其输入端接收现场传感器信号,与工控机进行通讯连接,输出端接现场设备;工控机为PLC的上位机,对PLC的控制程序进行编程,通过PLC对现场设备进行控制,所述现场设备包括步进电机驱动器和/或交流伺服电机驱动器和电机,并通过电机接现场传感器输入端。
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