[实用新型]带有单冷却自转盘的磁控溅射系统有效
| 申请号： | 201120446999.4 | 申请日： | 2011-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN202322997U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 冯彬;郭东民;佟辉;周景玉;刘丽华;张雪;戚晖 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 白振宇 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及镀膜设备，具体地说是一种带有单冷却自转盘的磁控溅射系统，包括磁控室、单冷却自转盘、第一电机、手动基片挡板组件、磁控靶、机台架及真空抽气系统，磁控室安装在机台架上、与位于机台架内的真空抽气系统相连，在磁控室内均布有多个安装在磁控室的下法兰上的磁控靶；单冷却自转盘转动安装在磁控室的上盖上，单冷却自转盘的一端载有基片、插入磁控室内，位于各磁控靶的上方，另一端位于上盖的上方；上盖上安装有带动单冷却自转盘旋转的第一电机；单冷却自转盘所载基片的下方设有安装在上盖上的手动基片挡板组件。本实用新型结构简单、控制方便、真空度高；本实用新型的上盖可通过电动提升机构上掀盖，便于维护和更换。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 冷却 转盘 磁控溅射 系统 | ||
【主权项】：
一种带有单冷却自转盘的磁控溅射系统，其特征在于：包括磁控室(1)、单冷却自转盘(3)、第一电机(4)、手动基片挡板组件(5)、磁控靶(6)、机台架(7)及真空抽气系统，其中磁控室(1)安装在机台架(7)上、与位于机台架(7)内的真空抽气系统相连，在磁控室(1)内均布有多个安装在磁控室(1)的下法兰(15)上的磁控靶(6)；所述单冷却自转盘(3)转动安装在磁控室(1)的上盖(2)上，单冷却自转盘(3)的一端载有基片、插入磁控室(1)内，位于各磁控靶(6)的上方，另一端位于上盖(2)的上方；所述上盖(2)上安装有带动单冷却自转盘(3)旋转的第一电机(4)；所述单冷却自转盘(3)所载基片的下方设有安装在上盖(2)上的手动基片挡板组件(5)。
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