[实用新型]磁控溅射系统有效
| 申请号： | 201120447404.7 | 申请日： | 2011-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN202322998U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 赵科新;佟辉;周景玉;刘丽华;张雪;戚晖 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 白振宇 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及镀膜设备，具体地说是一种磁控溅射系统，包括磁控室、基片转台、基片转台驱动电机、传动机构、磁控靶、机台架、真空抽气系统及电动提升机构，磁控室安装在机台架上、与位于机台架内的真空抽气系统相连，在磁控室内均布有多个安装在磁控室下法兰上的磁控靶；基片转台转动安装在磁控室上盖上，所载基片位于磁控室内、各磁控靶的上方，磁控室上盖上还安装有基片转台驱动电机，基片转台通过传动机构由驱动电机驱动旋转；机台架内安装有电动提升机构，其输出端由机台架穿出、与磁控室的上盖相连接，带动上盖及上盖上的基片转台和基片转台驱动电机升降。本实用新型具有功能齐全，自动化程度高，互换性和可靠性好等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 系统 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射系统，其特征在于：包括磁控室(1)、基片转台、基片转台驱动电机、传动机构、磁控靶(6)、机台架(7)、真空抽气系统及电动提升机构(14)，其中磁控室(1)安装在机台架(7)上、与位于机台架(7)内的真空抽气系统相连，在磁控室(1)内均布有多个安装在磁控室(1)的下法兰(15)上的磁控靶(6)；所述基片转台转动安装在磁控室(1)的上盖(2)上，所载基片位于磁控室(1)内、各磁控靶(6)的上方，磁控室(1)的上盖(2)上还安装有基片转台驱动电机，所述基片转台通过传动机构由基片转台驱动电机驱动旋转；所述机台架(7)内安装有电动提升机构(14)，该电动提升机构(14)的输出端由机台架(7)穿出、与磁控室(1)的上盖(2)相连接，带动上盖(2)及上盖(2)上的基片转台和基片转台驱动电机升降。
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