[实用新型]一种磁控溅射用靶材有效
| 申请号： | 201120451248.1 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN202347088U | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 武瑞军;田富 | 申请（专利权）人： | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫 |
| 地址： | 215200 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种磁控溅射用靶材，包括板状的靶材本体，所述的靶材本体上对应于环形刻蚀槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱状。这样在磁控溅射过程中，能够增大刻蚀的有效面积，就提高了靶材的利用率，降低了生产成本，适合在磁控溅射领域内推广使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 用靶材 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射用靶材，其特征在于：包括板状的靶材本体，所述的靶材本体上对应于环形刻蚀槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱状。
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