[实用新型]步进式光刻机的光罩遮掩单元有效
| 申请号： | 201120452120.7 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN202372752U | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 刘庆锋;王诚 | 申请（专利权）人： | 上海先进半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 200233 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种步进式光刻机的光罩遮掩单元，包括：光罩遮掩单元本体；四个底座，分别位于光罩遮掩单元本体的四个底角上，支撑光罩遮掩单元本体；以及四个垫片，分别设置于四个底座与光罩遮掩单元本体之间，将光罩遮掩单元本体垫高。该垫片的高度可为0.8毫米。本实用新型通过安装垫片的方法提高光罩遮掩单元的安装高度，从而缩小曝光区域，减小半阴影区域部分，提高精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 步进 光刻 遮掩 单元 | ||
【主权项】：
一种步进式光刻机的光罩遮掩单元，其特征在于，包括：光罩遮掩单元本体；四个底座，分别位于所述光罩遮掩单元本体的四个底角上，支撑所述光罩遮掩单元本体；以及四个垫片，分别设置于四个所述底座与所述光罩遮掩单元本体之间，将所述光罩遮掩单元本体垫高。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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