[实用新型]密闭式电化学抛光系统有效
| 申请号： | 201120454840.7 | 申请日： | 2011-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN202323096U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 吕春林 | 申请（专利权）人： | 深圳市和科达电镀设备有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 郭伟刚 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种密闭式电化学抛光系统，包括至少一电解槽(1)、副槽(2)以及配液槽(5)，通过循环机构分别连接于电解槽(1)和副槽(2)使其相互连通，副槽(2)与配液槽(5)之间设置有使其互相连通的循环机构；电解槽(1)密封于一壳体(6)内，壳体(6)顶端设有抽风罩(61)，副槽(2)设有将其密封的槽盖(21)，配液槽(5)设有将其密封的盖体(51)；壳体(6)一侧壁嵌设一钢化玻璃门(62)以及设于壳体(6)内引导钢化玻璃门(62)升降的导轨(63)。本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统有效降低了车间的噪音强度，且能够及时将电解过程中产生的有害气体和异味及时抽出处理，避免了有害物质危害人体健康。 | ||
| 搜索关键词： | 密闭式 电化学 抛光 系统 | ||
【主权项】：
一种密闭式电化学抛光系统，包括盛有电解液的至少一电解槽(1)、用于调节电解液的副槽(2)、以及为所述副槽(2)补充电解液的配液槽(5)，通过循环机构分别连接于所述电解槽(1)和所述副槽(2)使其相互连通，所述副槽(2)与所述配液槽(5)之间亦设置有使其互相连通的循环机构，其特征在于，所述密闭式电化学抛光系统还包括将所述电解槽(1)密封于其内的壳体(6)和设置于所述壳体(6)顶端的抽风罩(61)，所述副槽(2)设有将其密封的槽盖(21)，所述配液槽(5)设有将其密封的盖体(51)；所述壳体(6)一侧壁嵌设一钢化玻璃门(62)以及设于所述壳体(6)内引导所述钢化玻璃门(62)升降的导轨(63)。
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