[实用新型]清洗结构及清洗设备有效

专利信息
申请号: 201120468228.5 申请日: 2011-11-22
公开(公告)号: CN202316390U 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 王建伟;郑载润;吴代吾;王世凯;杨子衡;周伯柱 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B11/04
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种清洗结构及清洗设备,涉及半导体技术领域,能够解决的现有技术中玻璃基板经过清洗工艺之后仍然残留有微粒等污渍的问题。本实用新型提供的清洗设备,包括泵管道与清洗结构,所述泵管道的出水口与所述清洗结构的进水口连接,所述清洗结构包括用于旋转的中心部件,所述中心部件连接有用于驱动所述中心部件旋转的驱动部件;所述中心部件上沿旋转轴旋转的面上均匀设置有多个出水口,所述出水口与清洗条的进水口连接,所述清洗条上由所述进水口向所述清洗条另一端延伸的方向设置有多个狭缝喷嘴,所述狭缝喷嘴的出水口与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角。本实用新型可以应用清洗工艺中。
搜索关键词: 清洗 结构 设备
【主权项】:
一种清洗结构,其特征在于,包括用于旋转的中心部件,所述中心部件连接有用于驱动所述中心部件旋转的驱动部件;所述中心部件上沿旋转轴旋转的面上均匀设置有多个出水口,所述出水口与清洗条的进水口连接,所述清洗条上由所述进水口向所述清洗条另一端延伸的方向设置有多个狭缝喷嘴,所述狭缝喷嘴的出水口与待清洗的玻璃基板的垂直方向存在夹角。
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